Samsung jau ir gatavs ražošanas process pie 8 nm

Samsung ir viens no pasaules līderiem silīcija mikroshēmu ražošanā un nedomā iemest dvieli, Dienvidkorejas gigants jau ir gatavs jaunam, pilnveidotam ražošanas procesam, lai uzlabotu tā mikroshēmu un trešo personu, kuras izmanto tā lietuve.

Samsung jau ir gatavs 8 nm

Samsung ir oficiāli atklājis, ka tā jaunā 8nm LPP (Low Power Plus) ražošanas process ir gatavs pirmo mikroshēmu ražošanai, šis jaunais process piedāvā veiktspējas palielinājumu līdz 10% salīdzinājumā ar uzņēmuma pašreizējo 10nm procesu un līdz 10% tranzistoru samazinājums.

Šis mezgls ir Samsung esošā 10nm ražošanas mezgla uzlabojums, kas faktiski padara šo procesu par 10nm +, bet mārketingā tiek piemērota nosaukuma maiņa, jo mēs atceramies, ka, runājot par Izmēra tranzistoru izmēru, lai katra lietuve to varētu izteikt atšķirīgi. Tas nozīmē, ka divu uzņēmumu ražošanas procesi var būt ļoti atšķirīgi, neskatoties uz to, ka acīmredzami ir vienāds nm.

NVIDIA izpilddirektors saka, ka Mūra likums ir miris, un GPU aizstās CPU

Šī jaunā procesa mezgla priekšrocības ir tas, ka tas balstās uz Samsung esošo tehnoloģiju, ļaujot Samsung strauji paātrināt 8nm ražošanu, pielāgojot esošo 10nm tehnoloģiju. Samsung arī ir spējis nokārtot kvalifikāciju ar šo jauno mezglu trīs mēnešus pirms grafika, ļaujot uzņēmumam saražot 8nm funkcionālās mikroshēmas pirms grafika.

8nm būs Samsung pēdējais mezgls pirms pārejas uz EUV (Extreme Ultra Violet) ar tā 7nm ražošanas mezglu, ieviešot jaunu Mūra likuma laikmetu, ļaujot ražotājiem pārkāpt dažus ierobežojumus, kas ir bijuši neveiksmīgs progress nozarē.

7LPP būs pirmā pusvadītāju procesa tehnoloģija, kurā tiks izmantots EUV litogrāfijas risinājums. Samsung un ASML sadarbības centieni ir izstrādājuši 250 W maksimālās EUV jaudas, kas ir vissvarīgākais pavērsiena punkts EUV ievietošanai liela apjoma ražošanā. EUV litogrāfijas ieviešana pārkāps Mūra likuma mēroga šķēršļus, paverot ceļu viena nanometra pusvadītāju tehnoloģijas paaudzēm.

Overclock3d fonts